無塵無氧化乾燥設備丨偉勝乾燥

為敏感製程提供潔淨與低氧環境
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無塵無氧化乾燥設備分類包含兩個產品家族：WOL 以 HEPA 過濾控制微粒，QWO 以氮氣置換與正壓控制氧氣。兩者都用於一般熱風烤箱可能造成汙染或氧化的製程。

WOL 採用特殊門後板設計，加熱後不易變形，可大幅減少熱散失，兼顧溫度均勻度與節能。進口 HEPA FILTER 過濾效率99.97%，可達 ISO14644-1 Class 6~4 @ 0.3 µm，箱體內部均採無塵化配件及材料。

WOL-2、WOL-3、WOL-7、WOL-8 的內尺寸從70×50×60cm到150×70×160cm，依機型溫度範圍可達300°C。應用包括 LCD、爐管、晶圓工業、導光板、IC、電晶體、二極體、LED、背光模組、治具烘烤，以及半導體、PCB、面板與 ABF 載板的無塵烘烤。

QWO 與無塵烤箱不同之處，在於烘烤時利用惰性氣體充入箱內，避免產品氧化。官方資料指出，氣密性極佳可將含氧量低至10ppm，並可有效節省30%氮氣消耗。

關鍵設計包括：以排氣量可調閥件搭配入氣量維持爐內正壓的特殊洩壓設計、管狀電熱出線孔氣密、主／輔氮氣迴路節流設計、降溫時維持無氧化環境的冷卻夾層設計，以及形成氮氣氣牆的內門設計。應用包括 IC 封裝、晶圓烘烤、鍍膜製程、半導體乾燥、PCB 烘烤、面板乾燥與 ABF 載板乾燥。