超高溫、真空與燒結設備 #
特殊控制乾燥設備涵蓋一般熱風乾燥以外的製程：超高溫蒸氣加熱、真空乾燥與脫泡，以及高溫燒結。
HTWV 超高溫蒸氣反應爐 #
HTWV 採用內箱特殊補強設計，可防止高溫形變及消除應力；特製耐高溫分離型馬達、低震動不鏽鋼強化多翼式風扇與特殊處理傳動軸心，可降低熱變形。進口高溫發熱元件不易氧化及漏電。
溫度範圍為常溫~500°C，600°C規格可另訂製。官方特點包括放大加熱量、導熱係數高、有效降低功耗、節省約70%佔地空間、超細分子加熱媒介提升熱製程穿透性，以及搭配特殊回收裝置回收廢熱。
應用包括半導體乾燥、PCB烘烤、LED乾製程、電子產業乾製程、食品加工、生技殺菌、綠能脫臭回收、鍍膜製程、金屬熱處理、玻璃燒結、玻璃鍍膜、時效硬化、退火、MLCC、熱敏電阻與濾波器。
WVO 真空烤箱 #
WVO 採用強化透視觀測窗及耐壓強力門框，耐高溫矽膠迫緊不變形、氣密性佳，箱體內真空度可達5×10⁻³ Torr以上。
WVO-30、WVO-40、WVO-50、WVO-60 的內尺寸從30×30×30cm到60×60×60cm，溫度範圍 RT+20~200°C，採 PID+SSR 間接加熱，真空泵可選油式或乾式。應用包括各種含水物、溶液、多孔物、樹脂或揮發性液體在真空環境下的迅速烘乾、脫泡與除泡，以及 IC 半導體、面板烘烤與電子產業乾製程。
WSF 高溫燒結爐 #
WSF 內箱採用耐高溫陶瓷棉及陶瓷板、高鋁斷熱磚和岩棉，四重保溫使設備表面溫度低。爐內兩側採雙向熱輻射方式，加熱溫度分布均勻。
溫度範圍 RT~1200°C，機型從10×20×10cm到40×40×40cm。應用包括金屬零組件乾製程、各種灰化試驗、模具熱處理，以及各種材料的預熱回火、熔解等高溫用途。