Equipos de alta temperatura, vacío y sinterización #
La categoría Equipos de secado especializados abarca procesos que quedan fuera del secado estándar por aire caliente: calentamiento por vapor de temperatura ultraalta, secado y desespumado al vacío y sinterización a alta temperatura.
Reactor de vapor de temperatura ultraalta HTWV #
El HTWV utiliza una cámara interior reforzada, un motor resistente a la alta temperatura, un ventilador sirocco de acero inoxidable y elementos calefactores de alta temperatura importados. Su rango de temperatura estándar va de ambiente a 500 °C, con 600 °C disponible como opción personalizada.
La descripción oficial destaca la alta conductividad térmica, el menor consumo eléctrico, un ahorro de espacio de aproximadamente el 70 %, medios de calentamiento molecular ultrafinos para el calentamiento interno y externo, y un dispositivo de recuperación de calor residual. También describe un proceso sin humedad y con baja oxidación.
Las aplicaciones incluyen semiconductores, PCB, LED, electrónica, procesamiento de alimentos, esterilización biotecnológica, desodorización y reciclaje de energía verde, recubrimiento, sinterización y recubrimiento de vidrio, endurecimiento por envejecimiento, recocido, MLCC, termistores y filtros electrónicos.
Horno de vacío WVO #
El WVO es un horno de vacío con una ventana de observación transparente reforzada y un marco de puerta resistente a la presión. La junta de silicona resistente a la alta temperatura y a la deformación mantiene la estanqueidad, y el nivel de vacío de la cámara puede alcanzar 5 × 10⁻³ Torr o más.
Los modelos WVO-30, WVO-40, WVO-50 y WVO-60 ofrecen cámaras de 30 × 30 × 30 cm a 60 × 60 × 60 cm, con un rango de temperatura de RT + 20 °C a 200 °C y control PID + SSR. Las aplicaciones incluyen el secado rápido de sustancias acuosas, soluciones, materiales porosos, resinas y líquidos volátiles, así como el desespumado y la eliminación de burbujas en procesos de semiconductores y paneles táctiles.
Horno de sinterización de alta temperatura WSF #
El WSF utiliza cuádruple aislamiento con lana cerámica, placa cerámica, ladrillo aislante de alta alúmina y lana mineral. El calentamiento radiante bidireccional por ambas caras proporciona una distribución uniforme de la temperatura dentro de la cámara.
El rango de temperatura va de RT a 1200 °C, con modelos de 10 × 20 × 10 cm a 40 × 40 × 40 cm. Las aplicaciones incluyen pruebas de incineración, tratamiento térmico de utillajes y moldes, precalentamiento, revenido y fusión de diversos materiales, además de procesos de secado de componentes metálicos y moldes.