Высокотемпературное, вакуумное и спекательное оборудование #
Категория специализированного сушильного оборудования охватывает процессы за пределами стандартной сушки горячим воздухом: сверхвысокотемпературный паровой нагрев, вакуумную сушку и дегазацию, высокотемпературное спекание.
Сверхвысокотемпературный паровой реактор HTWV #
HTWV использует усиленную внутреннюю камеру, термостойкий двигатель, сирокко-вентилятор из нержавеющей стали и импортные высокотемпературные нагревательные элементы. Стандартный диапазон температур — от окружающей среды до 500 °C, 600 °C доступны как индивидуальная опция.
Официальное описание подчёркивает высокую теплопроводность, сниженное энергопотребление, экономию площади около 70 %, ультратонкие молекулярные нагревательные среды для внутреннего и внешнего нагрева и устройство рекуперации остаточного тепла. Также описан процесс без влаги и с низким окислением.
Применения включают полупроводники, PCB, светодиоды, электронику, пищевую обработку, биотехнологическую стерилизацию, дезодорацию и переработку зелёной энергии, покрытия, спекание и покрытие стекла, дисперсионное твердение, отжиг, MLCC, термисторы и электронные фильтры.
Вакуумная печь WVO #
WVO — вакуумная печь с усиленным прозрачным смотровым окном и стойкой к давлению дверной рамой. Высокотемпературное и деформационно-стойкое силиконовое уплотнение поддерживает герметичность, а вакуум в камере может достигать 5 × 10⁻³ Torr и выше.
Модели WVO-30, WVO-40, WVO-50 и WVO-60 обеспечивают камеры от 30 × 30 × 30 см до 60 × 60 × 60 см с диапазоном температур от RT + 20 °C до 200 °C и управлением PID + SSR. Применения включают быструю сушку водных веществ, растворов, пористых материалов, смол и летучих жидкостей, а также дегазацию и удаление пузырьков для полупроводниковых процессов и процессов сенсорных панелей.
Высокотемпературная печь спекания WSF #
WSF использует четырёхслойную изоляцию из керамической ваты, керамической плиты, высокоглинозёмного изоляционного кирпича и каменной ваты. Двусторонний двунаправленный радиационный нагрев обеспечивает равномерное распределение температуры в камере.
Диапазон температур — от RT до 1200 °C, модели от 10 × 20 × 10 см до 40 × 40 × 40 см. Применения включают испытания озолением, термообработку оснастки и пресс-форм, предварительный нагрев, отпуск и плавление различных материалов, а также процессы сушки металлических компонентов и пресс-форм.