Apparecchiature ad alta temperatura, sottovuoto e sinterizzazione #
La categoria Apparecchiature di essiccazione specializzate comprende processi al di fuori dell’essiccazione standard ad aria calda: riscaldamento a vapore ad altissima temperatura, essiccazione e degasaggio sottovuoto e sinterizzazione ad alta temperatura.
Reattore a vapore ad altissima temperatura HTWV #
L’HTWV utilizza una camera interna rinforzata, un motore resistente alle alte temperature, un ventilatore Sirocco in acciaio inossidabile ed elementi riscaldanti ad alta temperatura importati. L’intervallo di temperatura standard va da ambiente a 500 °C, con 600 °C disponibile come opzione personalizzata.
La descrizione ufficiale evidenzia l’elevata conduttività termica, il ridotto consumo elettrico, un risparmio di spazio di circa il 70%, mezzi di riscaldamento molecolari ultrafini per il riscaldamento interno ed esterno e un dispositivo di recupero del calore residuo. Descrive inoltre un processo senza umidità e a bassa ossidazione.
Le applicazioni comprendono semiconduttori, PCB, LED, elettronica, lavorazione alimentare, sterilizzazione biotech, deodorizzazione e riciclo dell’energia verde, rivestimento, sinterizzazione e rivestimento del vetro, indurimento per invecchiamento, ricottura, MLCC, termistori e filtri elettronici.
Forno sottovuoto WVO #
Il WVO è un forno sottovuoto con finestra di osservazione trasparente rinforzata e telaio della porta resistente alla pressione. La tenuta in silicone resistente alle alte temperature e alle deformazioni mantiene l’ermeticità e il vuoto della camera può raggiungere 5 × 10⁻³ Torr o superiore.
I modelli WVO-30, WVO-40, WVO-50 e WVO-60 offrono camere da 30 × 30 × 30 cm a 60 × 60 × 60 cm, con un intervallo di temperatura da RT + 20 °C a 200 °C e controllo PID + SSR. Le applicazioni comprendono l’essiccazione rapida di sostanze acquose, soluzioni, materiali porosi, resine e liquidi volatili, nonché il degasaggio e la rimozione delle bolle per processi di semiconduttori e pannelli touch.
Forno di sinterizzazione ad alta temperatura WSF #
Il WSF utilizza un isolamento quadruplo con lana ceramica, piastra ceramica, mattone isolante ad alto contenuto di allumina e lana di roccia. Il riscaldamento radiante bidirezionale su entrambi i lati garantisce una distribuzione uniforme della temperatura nella camera.
L’intervallo di temperatura va da RT a 1200 °C, con modelli da 10 × 20 × 10 cm a 40 × 40 × 40 cm. Le applicazioni comprendono prove di incenerimento, trattamento termico di attrezzature e stampi, preriscaldamento, rinvenimento e fusione di vari materiali, oltre ai processi di essiccazione di componenti metallici e stampi.