Controllo dell’ossidazione e lavorazione ad alta temperatura per materiali avanzati #
I materiali avanzati spesso combinano interfacce sensibili alla temperatura con metalli, resine o rivestimenti sensibili all’ossidazione. WEISUN affronta questi processi con forni a gas inerte, forni ad alta temperatura, forni sottovuoto e forni di sinterizzazione.
Il link applicativo ufficiale di WEISUN per i materiali avanzati punta al forno a gas inerte QWO. Il QWO utilizza spurgo di azoto e pressione positiva per ridurre l’ossigeno fino a 10 ppm e, secondo la descrizione, consente di risparmiare circa il 30% del consumo di azoto.
Processi rilevanti #
- Cottura e polimerizzazione senza ossidazione
- Incapsulamento di circuiti integrati e cottura di wafer
- Processi di deposizione di film e rivestimento
- Ricottura e indurimento per invecchiamento ad alta temperatura
- Essiccazione sottovuoto e degasaggio
- Prove di sinterizzazione e incenerimento
Apparecchiature rappresentative #
- Forno a gas inerte QWO — Controllo dell’ossigeno a 10 ppm, basso consumo di azoto, design a pressione positiva e strato intermedio di raffreddamento per processi sensibili all’ossidazione.
- Reattore a vapore ad altissima temperatura HTWV — Da ambiente a 500 °C, 600 °C opzionale; elevata penetrazione termica e recupero del calore residuo.
- Forno sottovuoto WVO — Vuoto fino a 5 × 10⁻³ Torr o superiore per essiccazione, degasaggio e rimozione delle bolle.
- Forno di sinterizzazione ad alta temperatura WSF — Da temperatura ambiente a 1200 °C con isolamento quadruplo e riscaldamento radiante bilaterale.