先端材料の酸化制御と高温処理 #
先端材料では、温度に敏感な界面と、酸化に敏感な金属、樹脂、コーティングが組み合わされることがよくあります。WEISUNは、不活性ガスオーブン、高温オーブン、真空オーブン、焼結炉でこれらのプロセスに対応します。
WEISUNの先端材料向け公式アプリケーションリンクは、QWO不活性ガスオーブンを指します。QWOは窒素パージと正圧により酸素を10 ppmまで低減し、窒素消費量を約30%節約できると説明されています。
関連プロセス #
- 無酸化ベークとキュア
- ICパッケージとウェーハベーク
- 成膜・コーティングプロセス
- 高温アニーリングと時効硬化
- 真空乾燥と脱泡
- 焼結・灰化試験
代表的な設備 #
- QWO不活性ガスオーブン — 10 ppmの酸素制御、低窒素消費、正圧設計、酸化に敏感なプロセス向けの冷却中間層。
- HTWV超高温水蒸気反応炉 — 常温～500°C、600°Cはオプション。高い熱浸透性と廃熱回収。
- WVO真空オーブン — 5 × 10⁻³ Torr以上の真空度で、乾燥、脱泡、気泡除去に対応。
- WSF高温焼結炉 — 常温～1200°C、四重断熱と両面放射加熱。