光学部品・ディスプレイ向けのクリーンルーム乾燥 #
光学プロセスは、パーティクル、温度の不均一、残留物に敏感です。WEISUNの光学アプリケーションリンクは、HEPAフィルトレーション、変形しにくいリアドア、高い気密性を組み合わせたWOLクリーンルームオーブンを指します。
関連プロセス #
- LCD・ディスプレイの焼成
- 導光板の乾燥
- IC、LED、トランジスタ、ダイオード、バックライトモジュールの処理
- 治具のキュア
- コーティング・成膜プロセス
- パーティクル管理が必要なクリーンルーム焼成
代表的な設備 #
- WOLクリーンルームオーブン — モデルにより60–300°C、HEPA 99.97%、ISO 14644-1クラス4–6、変形しないリアドア。
- WTH恒温恒湿試験チャンバー — 光学の信頼性と品質工学のための温湿度試験。
- WBC環境試験オーブン — 大型光学サンプルと信頼性検証向けの可動式環境試験。