Controle da oxidação e processamento em alta temperatura para materiais avançados #
Materiais avançados frequentemente combinam interfaces sensíveis à temperatura com metais, resinas ou revestimentos sensíveis à oxidação. A WEISUN aborda esses processos com fornos de gás inerte, fornos de alta temperatura, fornos a vácuo e fornos de sinterização.
O link oficial da aplicação de materiais avançados da WEISUN aponta para o forno de gás inerte QWO. O QWO usa purga de nitrogênio e pressão positiva para reduzir o oxigênio até 10 ppm e, segundo a descrição, economiza cerca de 30% do consumo de nitrogênio.
Processos relevantes #
- Cocção e cura sem oxidação
- Empacotamento de CIs e cocção de wafers
- Processos de deposição de filmes e revestimento
- Recozimento e endurecimento por envelhecimento em alta temperatura
- Secagem a vácuo e desespumação
- Testes de sinterização e incineração
Equipamentos representativos #
- Forno de gás inerte QWO — Controle de oxigênio em 10 ppm, baixo consumo de nitrogênio, projeto de pressão positiva e camada intermediária de resfriamento para processos sensíveis à oxidação.
- Reator a vapor de temperatura ultra-alta HTWV — De ambiente a 500 °C, 600 °C opcional; alta penetração térmica e recuperação de calor residual.
- Forno a vácuo WVO — Vácuo até 5 × 10⁻³ Torr ou superior para secagem, desespumação e remoção de bolhas.
- Forno de sinterização de alta temperatura WSF — De temperatura ambiente a 1200 °C com isolamento quádruplo e aquecimento radiante bilateral.