先進材料的氧化控制與高溫製程 #
先進材料經常同時包含溫度敏感界面與易氧化的金屬、樹脂或鍍層。偉勝以無氧化烤箱、高溫烤箱、真空烤箱與燒結爐對應這些製程。
偉勝官方網站的「先進材料」應用連結指向 QWO 無氧化烤箱。QWO 以氮氣置換與正壓維持低氧環境，官方資料指出含氧量可低至10ppm，並可節省約30%氮氣消耗。
對應製程 #
- 無氧化烘烤與固化
- IC 封裝與晶圓烘烤
- 鍍膜與薄膜沉積
- 高溫退火與時效硬化
- 真空乾燥與脫泡
- 燒結與灰化試驗
代表設備 #
- QWO 無氧化烤箱 — 10ppm 無氧化關鍵技術、低氮氣消耗、正壓設計與冷卻夾層。
- HTWV 超高溫蒸氣反應爐 — 常溫~500°C，600°C可訂製；高熱穿透與廢熱回收。
- WVO 真空烤箱 — 真空度可達5×10⁻³ Torr以上，用於乾燥、脫泡與除泡。
- WSF 高溫燒結爐 — RT~1200°C，四重保溫與雙向熱輻射。